Poids de l’Open access dans la production CNRS
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Titre
Overview of several applications of Chemical Downstream Etching CDE for IC manufacturing. Advantages and drawbacks versus WET processes
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BSO - Titre
Overview of several applications of chemical downstream etching (CDE) for IC manufacturing: advantages and drawbacks versus WET processes
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DOI
DOI
10.1117/12.2257971
XX
DOAI
DOAI
10.1117/12.2257971
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Identifiant WoS
WOS:000404883100008
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Accès ouvert
OA - Non
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Source - Accès ouvert
OA - Non
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Type d'accès
Non OA
XX
Editeur
SPIE
XX
Source
ADVANCED ETCH TECHNOLOGY FOR NANOPATTERNING VI
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ISSN
0277-786X
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Type de document
Meeting Abstract
XX
Notoriété
0 - Sans notoriété
XX
CNRS
Oui
XX
CNRS - Institut
INSIS - Institut des sciences de l'ingénierie et des systèmes
XX
uid:/6SBX7S2V
12/10/2021 14:52:46 (latest)
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